Filtr Ultrafioletowy

UV NANO-X MRC

Dedykowany do aparatów FujiFilm:

X100VI
X100V
X100F
X100T
X100S
X100

FILTR NAJWYŻSZEJ JAKOŚCI

DEDYKOWANY DLA PROFESJONALISTÓW

FILTR Z INNOWACYJNYMI NANO-POWŁOKAMI

Filtr zapobiega odblaskom i podświetleniom oraz zapewnia nieskazitelną ostrość obrazu
Kolory pozostają naturalne i wyraźne
Filtr redukuje mgłę, która może występować na morzu lub w górach
Ultra HD - wysoka rozdzielczość optyczna użytego szkła
28 Nano-powłok antyrefleksyjnych i ochronnych
Filtr jest wodoodporny i odporny na zarysowania
Pierścień wykonany z aluminium, wyposażony we wzór trapezowy, który ułatwia montaż i demontaż filtra
Przednia rama filtra jest magnetyczna i można ją łączyć z magnetycznymi filtrami K&F CONCEPT o średnicy 52 mm
Na filtrze można zamocować również osłonę firmy K&F CONCEPT dedykowaną do systemu (dostępną również w naszej ofercie)
W zestawie solidne opakowanie do przechowywania filtra

Produkt firmy: K&F CONCEPT - bezsporny lider jakości w produkcji filtrów fotograficznych

MODEL: KF01.2703 / UV MRC

Firma K&F CONCEPT przedstawia znakomitej jakości, profesjonalne filtry UV. Są to filtry z najwyższej półki, mało jakie filtry dorównują im jakością wykonania i stopniem zaawansowania.

Filtr posiada aż kilkadziesiąt nano-powłok nałożonych warstwowo na szło optyczne.

Filtr ultrafioletowy - UV absorbuje promieniowanie ultrafioletowe, odcinając promieniowanie, które w największym natężeniu występuje w warunkach, gdzie powietrze jest wyjątkowo przejrzyste (szczególnie w górach i nad morzem), a które na zdjęciu wywoduje efekt zamglenia.

Filtr UV NANO-X MRC nie tylko poprawia jakość zdjęć ale jest również doskonałym zabezpieczeniem dla obiektywu przed wszelkiego rodzaju pyłkami, tłuszczami, kurzem oraz uszkodzeniami mechanicznymi.

Cechy filtra K&F UV NANO-X MRC:

Wyprodukowany z najwyższej jakości, japońskiego szkła optycznego, dzięki temu transmisja światła jest dużo wyższa i wynosi ponad 99,9%
Filtr posiada specjalne nano-powłoki zapewniające znaczącą redukcję odblasków i poprawę wykonywanych zdjęć
Filtr pokryto również powłokami, które cechuje wysoka odporność na zarysowania i uszkodzenia mechaniczne. Powłoki zdecydowanie ułatwiają czyszczenie filtrów oraz zapobiegają nadmiernemu przyciąganiu kurzu, pyłków i innego rodzaju zanieczyszczeń
Super cienka i lekka, aluminiowa ramka typu SLIM
Doskonały stosunek jakości do ceny

Filtr pasuje m.in do następujących aparatów FujiFilm:

X100VI
X100V
X100F
X100T
X100S
X100

Filtr pokryto powłokami, które cechuje wysoka odporność na zarysowania i uszkodzenia mechaniczne. Stanową one doskonałe zabezpieczenie filtra nawet w najtrudniejszych warunkach
Filtr posiada powłoki, które zdecydowanie ułatwiają czyszczenie filtrów oraz zapobiegają nadmiernemu przyciąganiu kurzu, pyłków i innego rodzaju zanieczyszczeń
Filtr wykazuje właściwości wodoodporne

Przednia rama filtra jest magnetyczna i można ją łączyć z magnetycznymi filtrami K&F CONCEPT o średnicy 52 mm
Na filtrze można zamocować również osłonę firmy K&F CONCEPT dedykowaną do systemu (dostępną osobno w naszej ofercie)

W zestawie:

1x filtr UV
1x solidne, sztywne opakowanie zapobiegające zarysowaniom, uszkodzeniom oraz ułatwiające transport filtra

Przykładowe zastosowanie filtra K&F CONCEPT NANO-X MRC

Uwaga! Aparaty, obiektywy, statywy i inne akcesoria dodatkowe przedstawione na zdjęciach pełnią jedynie rolę podglądową i nie są przedmiotem sprzedaży.